La lithographie touche près de 120 micromarchés, sa croissance annuelle est estimée à 5% pour atteindre 4.6 milliard de dollars en 2020. L’intégration de micro-nanostructures dans les dispositifs et systèmes doit impérativement répondre aux exigences de performance et de fiabilité induites par un marché extrêmement concurrentiel. Il est largement admis que le développement de techniques de miniaturisation collectives (lithographie) est l’une des pierres angulaires des progrès technologiques réalisés depuis 30 ans. Dans ce contexte, des techniques de lithographies alternatives de nouvelle génération se sont développées, avec en particulier la nanoimpression, qui présente un fort potentiel industriel, notamment grâce à sa simplicité de mise en œuvre, à la gamme des dimensions accessibles (résolution nanométrique, traitement de surfaces jusqu’à plusieurs centaines de cm²) et au faible coût associé.

La nanoimpression est une technique de lithographie émergente permettant de fabriquer des motifs de très petites dimensions (de l'ordre du nanomètre) par simple pressage d'un moule transparent et nanostructuré dans une résine fluide. Considérant cette ‘simplicité’ de procédé, il reste très dépendant des matériaux utilisés et des domaines d’applications visés. Il est donc essentiel d’en esquisser les paramètres permettant un contrôle multi-échelle auquel ce procédé de nanostructuration versatil répond ou pourrait répondre.

A l’échelle de la communauté française l’enjeu est de fédérer les différents acteurs participant à l’éclosion de cette technologie, et de permettre à chacun de bénéficier des savoir-faire des acteurs de la recherche et de la technologie. Ces approches, tout comme les acteurs du domaine, relevant de champs scientifiques multidisciplinaires (polymère, chimie, micro-fabrication…).